光伏行业解决方案

光伏行业生产,主要提供单晶生长等关键工艺的真空设备支持。

光伏行业解决方案

光伏行业生产,主要提供单晶生长等关键工艺的真空设备支持。

核心应用场景

单晶硅生长(CZ直拉法)

• 8-12英寸单晶硅棒制备

真空度:10⁻³ ~ 10⁻⁴ Pa

• 30分钟内快速降至目标真空

 

 

单晶炉真空系统关键参数

工艺阶段

真空度要求

控制目标

初始排气阶段

常压 → 10⁻¹ Pa

30分钟内完成,排除空气杂质

硅料熔化阶段

10⁻³ ~ 10⁻² Pa

防止硅液氧化,保证纯度

晶体生长阶段

10⁻⁴ Pa量级

氩气保护+真空双控,均匀温场

冷却出炉阶段

10⁻² ~ 1 Pa

缓慢降温,防止晶体应力

解决方案优势

  大抽速机组:满足单晶炉快速抽气需求,缩短生产周期

  耐高温设计:适应1500℃以上高温工艺环境

  氩气循环系统:惰性气体保护+真空净化一体化

  节能优化:比传统方案能耗降低30%以上